什么是福建液化三氟化氮？液化三氟化氮有什么用處？
來源：m.sjfw.org.cn 發布時間：2022年10月09日
工業氣體品種十分多，其中不乏有一些風險氣體，今天小編給大家介紹一種氣體-福建液化三氟化氮：
三氟化氮化學式NF，在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，液化三氟化氮具有優良的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物外表不留任何殘留物，是十分良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。
三氟化氮主要用處是用作氟化氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反響能的有效局部（約25%）能夠以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學激光器中有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對外表無污染，特別是在厚度小于1.5um的集成電路資料的蝕刻中，三氟化氮具有十分優良的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物外表不留任何殘留物，同時也是十分良好的清洗劑。隨著納米技術的開展和電子工業大范圍的開展技術，它的需求量將日益增加。
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三氟化氮化學式NF，在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，液化三氟化氮具有優良的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物外表不留任何殘留物，是十分良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。
三氟化氮主要用處是用作氟化氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反響能的有效局部（約25%）能夠以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學激光器中有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對外表無污染，特別是在厚度小于1.5um的集成電路資料的蝕刻中，三氟化氮具有十分優良的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物外表不留任何殘留物，同時也是十分良好的清洗劑。隨著納米技術的開展和電子工業大范圍的開展技術，它的需求量將日益增加。
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